Samsung Electronics Rencanakan Produksi Massal Proses 1nm pada 2030, Terapkan Teknologi EUV NA Tinggi

Ahli teknologi Samsung Electronics, Park Chang-min, mengumumkan pada konferensi NGL 2026 bahwa Samsung Electronics berencana untuk memperkenalkan teknologi litografi EUV NA tinggi dalam proses 1 nanometer mereka, dengan produksi massal diperkirakan akan dimulai paling cepat pada tahun 2030. Perusahaan ini menjadikan node 1nm sebagai target untuk produksi massal, dengan fokus pada pengembangan teknologi yang diperlukan untuk komersialisasi. Samsung Electronics juga sedang memperkuat pengembangan EUV NA tinggi, yang merupakan generasi berikutnya dari teknologi EUV. Menurut peta jalan, Samsung Electronics diperkirakan akan mulai menggunakan EUV NA tinggi dalam produksi massal sekitar tahun 2030. Perusahaan ini telah berhasil mengkomersialkan proses 2nm dan berencana untuk memulai produksi massal proses SF1.4 1.4nm pada tahun 2029, sambil mempersiapkan untuk memulai produksi massal SF1.4+ (versi ditingkatkan dari proses 1.4nm) dan proses 1nm pada tahun 2030.

Konten ini disediakan hanya untuk tujuan informasi umum dan bukan merupakan nasihat keuangan, investasi, hukum, atau pajak. Setiap acara, reward, promosi online, atau informasi terkait yang disebutkan di sini tidak boleh dianggap sebagai rekomendasi, ajakan, atau undangan untuk membeli, menjual, memperdagangkan, atau melakukan transaksi aset kripto apa pun. Aset kripto sangat fluktuatif dan dapat mengakibatkan kerugian. Ketersediaan layanan, produk, dan acara terkait WEEX dapat berbeda-beda di setiap wilayah. Anda bertanggung jawab untuk memastikan bahwa partisipasi Anda sesuai dengan hukum dan peraturan setempat yang berlaku.