TSMCの漏洩事件：2人の元エンジニアがそれぞれ10年と6年の実刑判決

TSMCの4人の元エンジニアが、2ナノメートルの機密データを盗み出し、漏洩させたとして有罪判決を受けました。台湾の「知的財産及び商業法院」は、陳力銘に10年、呉秉駿に3年、戈一平に2年、陳韋杰に6年の実刑を言い渡しました。陳力銘と陳韋杰は控訴を申し立てましたが、台湾の「最高法院」は30日に控訴を棄却し、2人は直接刑務所に入ることになります。呉秉駿と戈一平は一審判決後に控訴を行わず、検察も控訴しなかったため、判決は確定しました。陳力銘はTSMCの12工場で歩留まりエンジニアを務めており、退職後はTSMCの半導体製造装置のサプライヤーに転職しました。TSMCの先進プロセス装置の供給を獲得するため、同僚に機密文書の撮影を何度も依頼しました。4人のエンジニアは、在職中のエンジニアの公用ノートパソコンを通じて、機密文書を開き、陳力銘が撮影または送信できるようにしました。