La Chine commence la production en série de son équipement de lithographie DUV

La Chine a lancé la production en série de son équipement de lithographie ultraviolette profonde (DUV) développé en interne. Le groupe Shanghai Aisena Electronics Technology prévoit de fournir cet équipement aux plus grands fondeurs de Chine, SMIC, Huahong Semiconductor et Changxin Memory à partir de cette année. Les équipements DUV sont des outils essentiels pour graver des circuits semi-conducteurs sur des wafers, et actuellement, ASML domine le marché. Aisena prévoit de produire environ cinq unités cette année et d'augmenter sa production à 20 unités d'ici 2027. Cependant, il semble difficile que l'équipement DUV chinois devienne un concurrent d'ASML. Reuters a rapporté que les équipements d'Aisena nécessitent une validation de performance et qu'il existe un grand écart technologique avec ASML. JP Morgan a analysé que la productivité et la fiabilité stables sont essentielles pour la fabrication de semi-conducteurs. L'impact sur l'industrie des semi-conducteurs nationale devrait être significatif à moyen et long terme, et si la localisation de l'équipement DUV en Chine réussit, cela pourrait soutenir l'expansion des capacités de production de SMIC et CXMT. Cependant, il semble difficile de rattraper rapidement la technologie et l'écosystème EUV d'ASML.

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